合肥半导体净化工程-洁净车间技术解决方案
来源：www.zmidb.cn 作者：空气好净化
发布时间:2021-07-08 14:45:58点击:次
一、详细介绍：
半导体组件空间单位都是以微米计算，因此微尘颗粒沾附在制作半导体组件的晶圆上，便有可能影响到其上精密导线布局的样式，造成短路或断路的严重后果。所有半导体制程设备都必须安置在隔绝粉尘进入的密闭空间中，这就是半导体无尘车间的来由。
以下半导体洁净无尘车间的相关的技术和使用管理办法：
1.半导体洁净无尘车间内部要确保粉尘只出不进，因此洁净无尘车间室内要保持大于大气压的环境。这就需要用大型鼓风机将经净化设备的空气源源不绝地打入洁净车间中。
2.为保持恒温与恒湿，大型空调设备须搭配前述之鼓风加压系统使用。鼓风机加压多久，空调就得开多久。
3.所有经净化设备的空气流动方向均由上往下为主，因此，洁净无尘车间室内空间设计或机台摆放应避免突兀，使尘埃细菌等在洁净无尘车间内回旋停滞的机会与时间减至最低程度。
4.所有建材均以不易产生静电吸附的材质为主。
5.所有人或事物进出洁净无尘车间，人必须穿配套防尘服，人或事物都要经过风淋室吹淋以将表面粉尘先行除掉。
6.半导体洁净无尘车间内水的使用只限用去离子水。一则防止水中粉粒污染晶圆，二则防止水中重金属离子(如钾、钠离子)污染金氧半晶体管结构之带电载子信道，影响半导体组件的工作特性。去离子水是良好的溶剂与清洁剂，在半导体工业之使用量极为惊人!
7.半导体洁净无尘车间所有用得到的气源，包括吹干晶圆及机台空压所需要的，都得使用氮气 (98%)，吹干晶圆的氮气甚至要求99.8%以上的高纯氮。
二、过滤效率：
过滤0.1微米的粒子
三、产品特点：
半导体洁净无尘车间所有用得到的气源，包括吹干晶圆及机台空压所需要的，都得使用氮气 (98%)，吹干晶圆的氮气甚
至要求99.8%以上的高纯氮。
四、应用场所：
制药工业、医院（手术室、无菌病房）食品、化妆品、饮料产品生产、动物实验室、理化检验室、血站等，细菌学、生物学、洁净实验室、物物工程（重组基因、疫苗制备）等行业。